第873章 从来没打过这么富裕的仗

那就是光刻机，想要快速的做到7nm，乃至于5nm。

那都是绝对不可能的！

原因无他，目前的光刻机，说工作原理吧，一说，大家都懂。

那就是：印刷照片！

光刻机，就是这么一台高精度的底片曝光洗印机！

就是把设计好的芯片电路图，曝光到“照相纸”上。

只不过这个“底片”的专有名词叫“掩膜”。

而“相片纸”就是制造芯片的基底材料硅晶圆。

经过曝光完成以后，最终得到的照片，就是芯片！

至于光刻机的结构呢，最关键的有三个，简单来说。

就是光源发射器，调整和聚焦光路的光学镜头，以及放硅晶圆的曝光台。

三个难点的第一个，就是光源。

在光刻机里面，光，就是一把刀，一把刻刀！

而，如果说这光刻机的光波越短，那么，这把刀就会越锋利。

比如，如果你要制作一颗7nm程度的芯片。

那么，在这个光刻机里面的每个元器件之间，那就是只允许有区区几纳米的间距，相当于头发丝的万分之一粗细。

目前来讲，能做到7nm，乃至5nm的光刻机，全球就那么一两家。

由此的，也是足以看得出来。

此等的光刻机，制作上的难度与水准，究竟有多么的恐怖！

而根据林墨刚才说的，他想要打造出来一台，7nm程度的光刻机。

那么，这在孟轻舟的眼里，毫无疑问，就是难如登天啊！

因为，目前国产的光刻机，最高也就是22nm的程度，这是落后了风车国as/ml公司的光刻机，足足15年！

就算追赶，哪怕他们拼尽了全力，估计也就只能做到，在五六年内追赶上。